光刻机和透射电镜哪个更难造？

1、光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备；
2、透射电镜作为一种极为重要的电子显微设备，在包括材料、生物、化学、物理等诸多领域发挥着不可替代的重要作用。
一个是芯片制造这块的，一个是科研仪器这块的，都是各自领域中重要的一部分，也是我国被卡脖子的技术之一。这两者被海外垄断的程度相当：
3、光刻机目前由荷兰ASML、日本尼康和佳能承包了，其中荷兰的ASML占据全球份额的87.4％。光刻机被誉为芯片之母，国产芯片的匮乏一定程度上源于光刻机的无力。但由于由于受到美国的影响，这些精端装备是是禁止向中国出口的。
在2016年6月“十二五”科技成就展览上，中国生产的最好的光刻机，加工精度是90纳米。这相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准，而国外已经做到了十几纳米。目前ASML EUV光刻机单价达到近一亿欧元，可满足 7nm 制程芯片的生产。
4、透射电镜目前由日本电子、日立、FEI（2016年被赛默飞公司以42亿美元收购）呈三足鼎立之势，，国内没有一家企业生产透射式电镜。冷冻电镜可以拍摄微观结构高清3d“彩照”，是生命科学研究的利器，透射式电镜的生产能力是冷冻电镜制造能力的基础之一。匹配冷冻电镜使用的工具都需要原装，零件坏了找不到人修理，只能等待零件邮寄到货后进行更换。
早在1963年，我国就开始了高压100kV电子枪稳定因素探讨的实验，1965年完成样机，中国自主研制透射式电镜于1979年达到当时的国际先进水平。后来由于种种原因，这项研究被中断。在很大程度上耽误了国产科学仪器进阶的黄金时期。

至于制造的难度：
1、我国最近很多机构打破了光刻机的专利壁垒。长春光机所，突破双波长激光共轴输出系统和方法；中科院，成功研发出极紫外光源技术；四川大学，突破了光刻机的光源技术。我国在光刻机领域取得的种种技术突破，阿斯麦尔都没有完全掌握，但仅仅突破还是不够的，我国要想实现EUV光刻机的国产化，至少就目前来看不太可能。
因为EUV光刻机是一个全球货，身上的零件可能来自全球各地不同企业和工厂。换言之，阿斯麦尔就是因为有全球光刻机生产链，所以才能垄断光刻机贸易市场。而这样的生产链，我国目前可能还无法布局。其次，EUV光刻机组装技术被垄断，因此我国就算成功拿到或者生产出阿斯麦尔光刻机身上的零件，也没有办法组装起来。
2、透射式电镜该领域的研发由于种种原因一度中断。“直到几年前，中国也试图重启这方面的公司，也曾立项想要完成场发射透射电镜的自主研发。”赛默飞公司技术支持陈宝庆回忆，曾经有相关的科研人员，辗转找到他询问。“他们想到的捷径之一是把生产厂商的专利拿来参考，但是其中很多生产工艺是秘方级别的，根本不会外传。”陈宝庆说。
在冷冻电镜从“看人影”到“辨雀斑”的发展历程中，中国没有使上劲。现在这项技术的核心部分已经成为了生产厂商的机密，我国想要自己掌握这项技术，差不多等于重头再来。

       文章来源：实验与分析

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