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技术指标:
沉积材料:Al2O3、ZnO 工艺温度:最高500℃ 样品尺寸:4英寸向下兼容 沉积速率: Al2O3 10nm/125cycle ZnO 20nm/125cycle。
主要功能:
主要功能:用于沉积单原子层超薄膜的气相沉积设备。通过精确控制媒质的流量以及使用清除媒质,保证了一次只沉积一层指定要求的单原子层超薄膜。
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